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抛光机器

07/15-2019

  电化学抛光机器,被抛光表面为阳极,辅助电极为阴极,当工作电流通过时,阳极表面发生各种变化与反应,最终使表面达到整平并光亮,此过程的实质目前尚未有一致的认识。虽然有些人通过试验或实际应用对电化学抛光对粗糙的表面凸起部位优先溶解的实质进行假设,或者说对抛光过程的机理进行了解释,但由于各人所采用的材料、配方及试验条件等不同,所得到的结论有很大的差别。

 

抛光机器

  早期由Jacquet提出的黏膜理论作解释,认为当电流通过时阳极表面生成了一层由阳极产物组成的电阻较高的黏性液膜,而导致抛光机器表面凸处与凹处溶解速度不同。这种说法得到不少人的认同,并在许多文章中引用。受黏膜论的影响,有人在配制电抛光液时在配方中加入一定量的甘泊、明胶等黏稠液体,以便得到更好的效果,但这种理论显然不能解释所有的问题。因此,有人提出气体膜论。该观点认为,在阳极过程中会产生绝缘的气体,这些气体在凸处和凹处的厚度是不同的,因此造成凸处的溶解速度快。

 

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  也有人提出钝化膜或氧化膜理论,认为电流通过后,阳极表面会不断生成氧化膜,不断被溶解,凸部位所生成的氧化膜较薄且疏松、容易溶解,而凹部的膜较厚则溶解速度慢。还有人提出,抛光面被整平的主要原因是由于表面晶体界面不同,使抛光时形成表面的不均匀溶解所致等。但这些解释都缺乏有力的证据,因此有关学者还有必要继续进行系统深入的研究工作,以便取得更加合理解释电化学抛光机器过程并为同行所接受的理论。

 

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